一種自動(dòng)化多工位硅片清洗工藝,采用水基溶液、混合溶劑或去離子水等清洗介質(zhì),利用超聲波、鼓泡、噴淋等清洗工藝,去除硅片表面的污染物,然后再通過(guò)在線(xiàn)加熱器將氮氣加熱后,從烘干槽上部噴出對硅片進(jìn)行干燥處理。
工藝流程:上料→超聲波清洗→鼓泡清洗→噴淋清洗→氮氣烘干→下料
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